John Sheil, groepsleider bij Advanced Research Center for Nanolithography (ARCNL), zal recente ontwikkelingen in onderzoek naar inertial confinement fusion (ICF) gebruiken. Sheil gaat recente ontwikkelingen voor het simuleren van ICF gebruiken om de meest nauwkeurige en uitgebreide beschrijving van tin-plasma op te bouwen. Sheil werkt samen met medewerkers van Los Alamos National Laboratory en Lawrence Livermore National Laboratory. Deze gegevens zullen dan dienen als input voor het tweede deel van ARIES, waarin hij grootschalige stralings-hydrodynamische modellering zal uitvoeren van nieuwe EUV-bron-plasmaconcepten die worden verhit door vaste stof lasers bij een golflengte van 2-micron. Deze simulaties zijn cruciaal om de omstandigheden te vinden die ongekende vermogens in de EUV-bronmogelijk maken.
"In de derde fase van ARIES," zegt Sheil, "zal ik experimenten bij ARCNL leiden om de door simulaties voorgestelde omstandigheden te testen en te verfijnen. Deze gezamenlijke simulatie-experimentele aanpak is uniek en maakt snelle tests en ontwikkeling van nieuwe EUV-bronconcepten voor toekomstige industrialisatie mogelijk."
Veni
De Nederlandse Organisatie voor Wetenschappelijk Onderzoek (NWO) heeft aan John Sheil een Veni-financiering toegekend. Hij kan hiermee in de komende drie jaar zijn eigen onderzoek naar duurzamere EUV-bronnen voor nanolithografie verder ontwikkelen.
Het NWO-Talentprogramma geeft onderzoekers de vrijheid om vanuit creativiteit en passie eigen onderzoek te doen. Zij ontvangen maximaal 280.000 euro. Het programma stimuleert vernieuwing en nieuwsgierigheid. Vrij onderzoek draagt bij aan en bereid ons voor op de maatschappij van morgen. Daarom zet NWO in op een diversiteit aan wetenschappers, domeinen en achtergronden. Veni maakt samen met de Vidi- en Vici-beurzen deel uit van het Talentprogramma.
NWO selecteert onderzoekers op basis van de wetenschappelijke kwaliteit en het innovatieve karakter van het onderzoeksvoorstel, de wetenschappelijke en/of maatschappelijke impact van het voorgestelde project en de kwaliteit van de onderzoeker.